輝光放電質(zhì)譜是一種分析方法，使用輝光放電源作為離子源與質(zhì)譜儀連接進(jìn)行。輝光放電質(zhì)譜在許多學(xué)科中得到了重要的應(yīng)用。由于其直接固體注射，它已成為分析無機(jī)固體材料中雜質(zhì)的有力方法，尤其是高純度金屬、合金和其他材料中的雜質(zhì)。
輝光放電質(zhì)譜原理：輝光放電質(zhì)譜儀由輝光放電離子源和質(zhì)譜儀組成。輝光放電屬于低電壓放電。同時(shí)，樣品在GD源中的霧化和電離在兩個(gè)不同的區(qū)域進(jìn)行，即陰極暗區(qū)near樣品表面和陽極附近的負(fù)輝光區(qū)域，這也大大降低了基體效應(yīng)。GD電源的供電方式可分為直流輝光放電（DC-GD）、射頻輝光放電和脈沖輝光放電三種。其中，直流電源使用最為廣泛，另外兩種與質(zhì)譜的結(jié)合仍處于實(shí)驗(yàn)室階段，沒有商用儀器。
輝光放電質(zhì)譜具有以下特點(diǎn)及功能：直接固態(tài)取樣、離子源電離能力強(qiáng)、高靈敏度和分辨率、測量過程穩(wěn)定、具有良好的再現(xiàn)性和再現(xiàn)性、周期表中幾乎所有元素（C、O、H、N除外）都可以定性或定量分析，輝光放電質(zhì)譜可以直接檢測無機(jī)粉末、涂層/基材和非導(dǎo)電材料，無需樣品制備，并提供各種元素的信息；
輝光放電質(zhì)譜分析的應(yīng)用：
1、高純度材料分析
高分辨率輝光放電
質(zhì)譜分析具有較強(qiáng)的干擾去除能力，動(dòng)態(tài)范圍寬，可實(shí)現(xiàn)恒定、痕量和超痕量分析。特別適用于高純度物質(zhì)的分析。
2、深度分析
深入分析對(duì)研究薄層材料具有重要意義。
3、導(dǎo)線材料分析
直流質(zhì)譜不能直接分析非導(dǎo)電材料。有兩種常用的分析非導(dǎo)電材料的方法：第二陰極法和混合法。第二陰極方法對(duì)第二陰極的材料有嚴(yán)格的要求。
